




氦氣檢漏儀
氦氣檢漏儀是氦質(zhì)譜檢漏儀((Helium Mass Spectrometer Leak Detector)的俗稱,運用質(zhì)譜原理制成的儀器稱為質(zhì)譜計或質(zhì)譜儀。質(zhì)譜儀通過其核心部件質(zhì)譜室,使不同質(zhì)量的氣體變成離子并在某種場中運動后,不同質(zhì)荷比的離子在場中彼此分開,而相同質(zhì)荷比的離子在場中匯聚在一起,如果在適當位置安置接收1器接收所有這些離子,就會得到按照質(zhì)荷比大小依次分開排列的質(zhì)譜圖,這就是質(zhì)譜。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。
用于檢漏的質(zhì)譜儀稱為質(zhì)譜檢漏儀。測量氣體分壓力的所有質(zhì)譜計,如四極質(zhì)譜計、射頻質(zhì)譜計、飛行時間質(zhì)譜計、回旋質(zhì)譜計等都可以用于檢漏。
專門設(shè)計的以氦氣作示蹤氣體進行檢漏的質(zhì)譜儀稱為氦質(zhì)譜檢漏儀。這種儀器除靈敏度高外,還具有適應(yīng)范圍廣、定位定量準確、無毒、安全、反應(yīng)速度快等優(yōu)點。氦質(zhì)譜檢漏儀中用得較多的是90°和180°的磁偏轉(zhuǎn)型質(zhì)譜儀。
眾所周知,當一個帶電質(zhì)點(正離子)以速度v進入均勻磁場的分析器中,如果速度v的方向和磁場H的方向相垂直,則它的運動軌跡為圓,如圖1所示。當磁場的磁通密度一定時,不同質(zhì)荷比(m/e)的離子在磁場中都有相應(yīng)的運輸半徑,也就是都有相應(yīng)的圓軌跡,這樣,不同質(zhì)荷比的帶電粒子在磁場分析器中運動后就會彼此分開。如果在離大運動的路徑中安置一塊檔板將其他離子檔掉,而在對應(yīng)的氦離子運動半徑位置的檔板上開一狹縫,狹縫后安置離子接收極,這樣的只有氦離子才能通過狹縫而被接收極接收形成氦離子流,并經(jīng)放大器放大后由測量儀表指示出來。真空法的缺點是只能實現(xiàn)一個大氣壓差的漏率檢測,不能準確反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實泄漏狀態(tài)。檢漏時,如果用氦氣噴吹漏孔,氦氣便通過漏孔進入檢漏儀的質(zhì)譜室中,使檢漏儀的測量儀表立即靈敏地反應(yīng)出來,達到了檢漏的目的。
用氦氣作為氦質(zhì)譜檢漏氣體的原因
選擇示漏氣體(示蹤氣體)的原則是:它在空氣中及真空系統(tǒng)中的含量低;檢漏儀對示漏氣體的靈敏度高;它不會對人員、環(huán)境、被檢件及檢漏儀造成污染、傷害和安全隱患;價格低。
質(zhì)譜檢漏儀通常選擇氦氣作示蹤氣體,主要原因如下:
1、氦在空氣中及真空系統(tǒng)殘余氣體中的含量極1少(在空氣中約含5.2ppm),在材料出氣中也很少,因此本底壓力小,輸出的本底電流也小。正因為本底小,由某些原因引起本底的波動,亦即本底噪聲也就小,因此微小漏率也就能反應(yīng)出來,靈敏度高。
2、氦的質(zhì)量小(相對分子質(zhì)量為4),易于穿過漏孔。這樣,氦較除氫以外的其他氣體通過同一漏孔的漏率就大,容易發(fā)現(xiàn),靈敏度高。
3、氦是惰性氣體,不與被檢件器壁起化學反應(yīng),不會污染被檢件,使用安全。
4、在氦兩側(cè)的是氫(質(zhì)荷比為2)和雙電荷原子碳(質(zhì)荷比為6),質(zhì)荷比都與氦相差較大。這樣,它們在分析器中的偏轉(zhuǎn)半徑相差也大,容易分開,定標找氦峰時,不易受其他離子的干擾,因此就降低了對分析器制造精度的要求,易于加工。當被檢件密封面上存在漏孔時,示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出,泄漏出來的氣體進入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。同時,分析器出口電極及離子源加速極的隙縫也可以加大,使更多的氦離子通過,提高了儀器靈敏度。
5、氦在被檢件及真空系統(tǒng)中不易被吸附。這樣檢出一個漏孔可以使氦信號迅速消失以便繼續(xù)進行檢漏,提高了儀器的檢漏效率。
6.氫氣有些性能(如質(zhì)量小、易通過漏孔)比氦還好,然而由于氫一方面有易1爆危險,另一方面在油擴散泵中,由于油受熱裂解會產(chǎn)生大量的碳和氫,使氫本底極高且波動大,以致靈敏度大大降低,所以很少采用。
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氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標準
氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測量原理,實現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測量。當被檢件密封面上存在漏孔時,示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出,泄漏出來的氣體進入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。主要有離子源、分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計組成,離子源是氣體電離,形成一束具有特定能量的離子,分析器是一個均勻的磁場空間,不同離子的質(zhì)荷比不同。在獲得氦氣信號值的基礎(chǔ)上,通過標準漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。
根據(jù)檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測原理、優(yōu)缺點及檢測的標準。
真空法氦質(zhì)譜檢漏
采用真空法檢漏時,需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時,氦氣就會通過漏孔進入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。當在清潔、純凈空氣中報警或不穩(wěn)定時,應(yīng)更換探頭,具體探頭步驟是如下:(1)確認本儀器處于關(guān)閉狀態(tài)(2)逆時針旋下舊探頭(3)順時針旋上包裝箱中提供的備用探頭。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實現(xiàn)漏孔的準確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來,在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。
氦質(zhì)譜檢漏儀故障與處理
(1)內(nèi)部的密封結(jié)構(gòu)
當檢漏儀內(nèi)部存在泄漏時,會對檢漏工作造成較大干擾,容易造成誤檢、誤判。 檢漏儀內(nèi)部主要的密封部位在檢漏儀的后側(cè)(見圖2),位于隔熱板的上方:①檢漏儀測試口與閥門組塊的連接部位,密封方式采用膠灌密封,檢漏儀在運輸過程中如遇到強烈震動,此處容易造成密封膠開裂。儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標真空產(chǎn)品。②各電磁閥與閥門組件間的連接部位。密封方式采用氟橡膠圈或金屬墊片密封,橡膠圈的密封壽命有限,使用5 年以上時,有可能會存在密封失效的問題。③各零部件接口處的密封部位。如放大器與質(zhì)譜室、離子源與質(zhì)譜室、分子泵與質(zhì)譜室、標準漏孔與閥門組件、真空計與閥門組件等接口間的金屬墊片密封或橡膠圈密封。
(2)定位方法
采用噴吹法對各密封部位的氣密性進行檢測,因檢漏儀內(nèi)部結(jié)構(gòu)緊湊,各密封結(jié)構(gòu)間的距離很近,檢測時定位難度較大。經(jīng)摸索,在檢測時采用以下技巧,可提高定位的能力:①查漏前,先將分子泵風扇的電源斷開,避免風扇將氦源吹散至各個密封環(huán)節(jié),造成定位不準確。熱管需要檢漏原因:熱管內(nèi)部填充特殊液體用來增強熱傳導(dǎo)性能,如果熱管本身存在漏點,首先會影響熱管的導(dǎo)熱性能。②噴吹時,要嚴格控制氦源的流量,盡量采用噴槍咀流量小的噴槍,提高定位的能力。③儀器的反應(yīng)時間小于1 s,所以在一個部位噴吹的時間約3 s,再等待約3 s 后觀測信號有無變化。
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